在半导体制造中，高纯氮气（HP N2）、高纯氩气（HP Ar）、高纯氦气（HP He）和洁净干燥空气（CDA）等高纯压缩气体在各过程发挥着至关重要的作用。 氮气通常用于吹扫和惰性处理，以防止氧化和污染。 氩气具有惰性，在等离子蚀刻和溅镀中必不可少，可准确完成材料去除和沉积。 氦气具有出色的导热性，在冷却系统和泄漏检测中用处很大。 洁净室环境可使用无污染的纯空气维持严格的质量标准。
测量这些昂贵气体的流量有助于成本控制、过程控制、效率和安全性的一致性。 准确的流量监测可实现准确的气体输送，尽可能减少浪费，确保制造过程的理想性能。
